PVD-Beschichten

Das PVD Beschichten gehört in der Oberflächenbearbeitung zu den Beschichtungsverfahren und wird auch als physikalische Gasphasenabscheidung (Physical Vapour Deposition, PVD) bezeichnet. Dabei handelt es sich um eine Beschichtungstechnologie, die mehrere Verfahren zusammenfasst und auf der Überführung eines Ausgangsmaterials in die Gasphase basiert. Im gasförmigen Zustand wird das Material dann zum Werkstück geführt, wo es durch Kondensation eine Beschichtung bildet. Zu Beginn des Prozesses liegt der Beschichtungswerkstoff in fester Form in einer evakuierten Beschichtungskammer vor. Das Material wird dann mithilfe von Laserstrahlen, Ionen, Elektronen oder Lichtbögen schlagartig verdampft und durch elektrische Felder durch die Kammer auf das zu beschichtende Bauteil geführt. Der geringe Druck von üblicherweise 10^-4 Pa bis 10 Pa verhindert, dass das Beschichtungsmaterial durch Streuung an Gasteilchen verlorengeht. Die resultierenden Schichtstärken liegen üblicherweise im Nanometer- bis Mikrometerbereich. Bei zu großen Schichtdicken kann es aufgrund von Eigenspannungen zur Entschichtung kommen. Typische Schichtarten beim Nitrieren sind beispielsweise Titannitrid (TiN), Titancarbonitrid (TiCN), Titanaluminiumnitrid (TiAIN), ALOX, TINALOX oder Chromnitrid. Eines der bekanntesten PVD Anwendungsbeispiele ist das Sputtern beziehungsweise die Sputter-Deposition, bei dem das Ausgangsmaterial in Sputteranlagen durch Ionenbeschuss verdampft wird. Beim PVD Beschichten werden Schichtsysteme häufig in Lohnfertigung hergestellt, um kundenspezifische Anforderungen zu berücksichtigen. Zu den bekanntesten Unternehmen der Branche gehören unter anderem ZOM Oberflächenbearbeitung und Designfactory CMD.